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Développement d’un prototype de masque de photolithographie à micro-pixels actionnables
Développement d’un masque actif à pixels actionnables, dans le but de remplacer les masques fixes dans les systèmes de photolithographie utilisé pour la fabrication de semi-conducteur. Pour cette première phase, la partie active du dispositif sera micro-fabriqué par des technologies de système micro-electro-mécanique (MEMS).
Faculty Supervisor:
Luc Fréchette
Student:
Partner:
Technologies Digitho inc.
Discipline:
Engineering
Sector:
Manufacturing; Professional, scientific and technical services
University:
Université de Sherbrooke
Program:
Business Strategy Internship
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