Etude de précurseurs organométalliques pour le dopage de revêtements DLC synthétisés par PECVD

Ce projet vise à approfondir la compréhension des mécanismes fondamentaux lors du dopage métallique de films de DLC (Diamond-Like Carbon) déposés par PECVD couplé à l’injection d’aérosol, procédé plasma permettant la synthèse de couches minces. Ces films, composés d’un réseau de liaisons carbonées sp² et sp³, présentent une grande dureté, une inertie chimique élevée et une faible conductivité électrique. L’ajout contrôlé d’atomes métalliques permet d’en modifier la structure et le comportement de manière ciblée.
L’étude portera sur des précurseurs organométalliques de type métallocène, utilisés comme source métallique pour le dopage des couches minces lors du dépôt plasma. Après une première phase réalisée dans un plasma RF capacitif, le stage explorera un plasma inductif, plus dense et homogène, afin d’en évaluer l’influence sur la fragmentation des complexes et l’incorporation du métal dans la matrice carbonée.
Mené conjointement par l’Université de Montréal et l’Université Toulouse, ce projet combine l’expertise des deux équipes en chimie des précurseurs et en science des plasmas, afin d’améliorer la compréhension des interactions entre chimie moléculaire et procédés de dépôt plasma.

Faculty Supervisor:

Luc Stafford

Student:

Partner:

Université de Toulouse

Discipline:

Physics

Sector:

Education

University:

Université de Montréal

Program: