Adaptation et optimisation d’une machine de dépôt et degravure par pulvérisation cathodique
Le dioxyde de titane (TiO2) est un oxyde d’un métal de transition. Le dépôt en couches minces de ce matériau trouve différents domaines d’applications tant dans le domaine de la catalyse qu’en électronique ou en optique. Dans cette étude, le matériau sera déposé par pulvérisation cathodique à partir d’une cible de TiO2-x ou de titane combinée à un plasma d’oxygène. Les propriétés du matériau dépendent fortement des conditions de dépôt. Il sera donc important de contrôler les conditions opératoires telles que la température du substrat, la tension de décharge, la polarisation du substrat, le flux de gaz O2, la vitesse de dépôt, etc, pour déterminer les propriétés structurales (stoechiométrie, structure cristalline du matériau, porosité, rugosité) mais également les propriétés optoélectroniques. Les caractérisations seront réalisées in situ (spectroscopie d’émission optique) et ex situ (conductive AFM, Raman, DRX, XPS) afin d’identifier les propriétés du plasma et du matériau déposé, respectivement.
View Full Project DescriptionAndreas Ruediger
Plasmionique Inc.
Engineering
Manufacturing; Professional, scientific and technical services
Université du Québec : Institut national de la recherche scientifique
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