Étude de dépôt de couches minces sur bois assisté par Plasma.

Le projet porte sur le développement d’un procédé de dépôt de couches minces sur le bois et ces dérivés (contre-plaqué, etc) par l’utilisation d’un réacteur PE-CVD (plasma enhanced chemical vapor deposition).
Le dépôt recherché aura pour rôle d’ignifugier et de ralentir la combustion du bois.
L’étude s’orientera sur le comportement du réacteur de dépôt, sur ces caractéristiques physiques et techniques.
Elle portera aussi sur la manière dont le précurseur chimique employé dans le dépôt se comporte au sein du réacteur, quelle sera sa cinétique chimique.
Enfin il sera étudié la façon dont le substrat bois modifie la dynamique du réacteur et inversement comment il est impacté par le processus (notamment l’impact thermique, principale limitant).
Ce travail s’effectuera par des recherches bibliographiques, théoriques et par l’analyse d’échantillons à travers une étude paramétrique.
A terme il est attendu d’obtenir des dépôts, dans un premier temps sur silicium, puis sur bois, et d’établir des relations entre les propriétés de ces revêtements et les paramètres du réacteur.

Faculty Supervisor:

Gaétan Laroche

Student:

Partner:

Université de Toulouse

Discipline:

Physics

Sector:

Education

University:

Université Laval

Program: